Перечень имеющегося оборудования

1. Установка вакуумного напыления УВН-2М (1983 г.) — нанесение металлизации

2. Установка для измерения линейных размеров и визуального контроля микроэлектронных структур BMG-160 (производство Karl Zeiss Jena, 1983 г.) — визуальный контроль и измерение линейных размеров топологии микросхем

3. Печь диффузионная СДО — 125 (1983 г.) — термический отжиг и нанесение полупроводниковых и диэлектрических слоев

4. Линия обеспылевания ЛАДА-125 (2009 г.) — очистка воздуха в рабочей зоне

5. Установка нанесения фоторезиста Лада — 125 ЭЛЕКТРОНИКА (1983 г.) — нанесение фоторезиста

6. Установка самодельная СУОЛ-044.12.142 (1983 г.) — термическая обработка материаллов

7. Печь многофункциональная PEO-604 (производство ATV Technologie GMBH, 2008 г.) — широкая область применения в сфере полупроводниковой и гибридной технологий

8. Установка получения тонких эпитаксиальных пленок сложных оксидов Плазма-80СЭ (производство ООО «Элитех», 2008 г.) — получение наноразмерных сегнетоэлектрических пленок

9. Осциллограф Tektronix TBS 1042 (производство Tektronix, 2012 г.) — исследование элктрических сигналов датчиков и устройств преобразования

10. Мультиметр цифровой DMM 4050 6-1/2 (производство Tektronix, 2013 г.) — исследование электрофизических параметров материалов

11. Микроскоп МИИ-7 (1967 г.) — измерение толщин пленок

12. Полуавтоматический скрайбер Алмаз (1983 г.) — разделение полупроводниковых и диэлектрических подложек

13. Установка совмещения и экспонирования ЭМ-576 (производство Эвистор, 1983 г.) — проведение процессов фотолитографии

14. Усилитель заряда РШ2731Э (производство ЗАО «РУДНЕВ-ШИЛЯЕВ», 2010 г.) — усиление и преобразование заряда сенсорных элементов